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Sistema de transferência de massa a laser Micro LED

Transferência de laser ultraprecisa para matrizes de micro LED. Produção em massa de alta velocidade com precisão de mícrons. O processo sem contato garante zero danos. Design modular para dimensionamento flexível da produção.
  • Le Cheng
  • Xangai
  • Três meses
  • Cinquenta conjuntos dentro do ano

Descrição do produto:

Este sistema avançado utiliza tecnologia laser para transferência de massa de chips Micro LED sem danos, com precisão de nível mícron. 

  • Nenhum dano aos chips durante o processo de transferência

  • Posicionamento preciso de chips Micro LED

  • Arranjo de matriz programável

  • Especializado em aplicações de display Micro LED

Micro LED Laser Mass Transfer System

Principais características:

  1. Transferência de laser sem contato (taxa de dano de chip <0,01%)

  2. Precisão de posicionamento de ±1,5μm

  3. Padrões de matriz de chips totalmente personalizáveis

  4. Capacidade de produção de alto rendimento

​​Laser Mass Transfer Equipment​

Especificações técnicas:

Parâmetro

Especificação

Precisão

±1,5μm

Velocidade

150 mil UPH

Laser

UV de 355 nm

Substrato

Vidro/Si/Flexível

Aplicações:

  • Exibições de grande porte

  • Micro-displays (AR/VR)

  • Exibições automotivas

  • Eletrônica flexível

​​Micro LED Pick-and-Place Machine

As especificações são apenas indicativas - Todos os equipamentos são totalmente personalizáveis ​​de acordo com suas necessidades!



  • Quanto tempo demora entre o pedido do equipamento e a produção oficial quando cooperamos com a Locsen?

    O cronograma geral varia de acordo com as especificações do equipamento e a escala da linha de produção. Para equipamentos autônomos, os modelos padrão exigem um ciclo de fabricação de 45 dias, com duração total (incluindo envio e instalação) de aproximadamente 60 dias. Equipamentos personalizados exigem um prazo adicional de 30 dias, com base nos requisitos técnicos. Para soluções de linha completa: • Linhas de produção de nível de 100 MW requerem ~4 meses para planejamento, fabricação de equipamentos, instalação e comissionamento • As linhas de produção de nível GW requerem ~8 meses Fornecemos cronogramas detalhados de projetos com gerentes dedicados, garantindo uma coordenação perfeita. Exemplo: a linha de produção de perovskita de 1 GW de um cliente foi concluída 15 dias antes do previsto, por meio da fabricação paralela de equipamentos e construção de instalações.
  • A Locsen oferece equipamentos adequados e soluções de parceria para empresas iniciantes de perovskita?

    A Locsen oferece um "Programa de Parceria em Fases" projetado especificamente para startups de perovskita. Para a fase inicial de P&D, fornecemos equipamentos compactos em escala piloto (por exemplo, sistemas de gravação a laser de 10 MW) junto com pacotes de processos essenciais para facilitar a validação da tecnologia e a iteração do produto. Durante as fases de expansão, as startups se qualificam para benefícios de atualização: • Módulos principais de equipamentos piloto podem ser negociados com dedução de valor para máquinas de linha de produção • Colaboração técnica opcional, incluindo suporte ao desenvolvimento de processos e compartilhamento de dados experimentais Este programa permitiu com sucesso que diversas startups fizessem uma transição tranquila do laboratório para a produção piloto, ao mesmo tempo em que reduzia os riscos de investimento em estágio inicial.
  • O equipamento da Locsen suporta células solares de perovskita de tamanhos variados? Qual é a dimensão máxima suportada?

    O equipamento laser da Locsen apresenta compatibilidade de tamanho excepcional, capaz de processar células solares de perovskita variando de 10 cm x 10 cm a 2,4 m x 1,2 m. Para processamento de células superdimensionadas (por exemplo, substratos rígidos de 12 m × 2,4 m), oferecemos sistemas de laser do tipo pórtico personalizados com sincronização de múltiplos cabeçotes de laser para garantir precisão e produtividade. • Desempenho comprovado: células de 1,2 m × 0,6 m processadas com sucesso com precisão de marcação líder do setor (± 15 μm) e uniformidade (> 98%) • Design modular: módulos ópticos intercambiáveis ​​adaptam-se a espessuras variadas (0,1-6 mm) • Calibração inteligente: o alinhamento do feixe em tempo real assistido por IA compensa a deformação do substrato
  • A Locsen fornece soluções de laser personalizadas para todos os principais estágios de produção de células solares de perovskita?

    Sim, a Locsen fornece soluções abrangentes de processamento a laser que abrangem toda a cadeia de produção de células solares de perovskita: Marcação a laser P0: para identificação de células após deposição de filme P1/P2/P3 Laser Scribing: Padronização de precisão de • Camadas condutoras transparentes (P1) • Camadas ativas de perovskita (P2) • Eletrodos traseiros (P3) Isolamento de borda P4: corte de borda em nível de mícron para evitar curto-circuito Módulos de células tandem: sistemas de gravação a laser dedicados para processamento de camadas multimateriais Nosso ecossistema de equipamentos integrados garante que todos os requisitos de processamento a laser sejam atendidos com: • Precisão de alinhamento ≤20μm entre camadas • Zona de Efeito Térmico controlada abaixo de 5μm • Plataformas modulares que dão suporte à P&D para produção em escala GW
  • Quais faixas de tolerância de composição as ferramentas de Locsen suportam para formulações de perovskita variantes?

    Os sistemas de laser da Locsen demonstram adaptabilidade excepcional a diversas composições de perovskita. • Parâmetros pré-carregados: configurações otimizadas para formulações convencionais (por exemplo, FAPbI₃, CsPbI₃) na biblioteca de receitas de laser permitem acesso instantâneo ao operador • Suporte de P&D: para novas composições (por exemplo, perovskitas baseadas em Sn), nossa equipe oferece: Calibração personalizada de comprimento de onda/fluência em 72 horas Validação de desempenho garantindo<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

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